LightNews — News, ranked by scholars

muchonov

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中国製造2025ラインの最終的な聖杯は「最新世代のプロセスルールでの半導体製造技術の獲得」ということだと思うけど、ASMLのEUVと同等水準の技術を内製化するまでのリードタイムは、長くてもあと数年程度なんじゃないかな…。

Xでは「日本のフォトレジストを禁輸すれば中国の半導体産業は終了w」とかイキがってる人達も結構いるんだけど、あれは新規参入の障壁が高いから国際分業体制が安定してるだけで、今の中国がやってできないような代物ではない。実際、韓国は日本の輸出管理強化後、EUVレジストの内製化を進めてるし。

January 16, 2026 at 3:02 AM

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@new3rd.bsky.social

リソグラフィ技術の現在と未来を探るオンラインセミナーのご案内#神奈川県 #川崎市 #AndTech #リソグラフィ #EUVレジスト

リソグラフィ／EUVレジストに関するオンラインセミナーが5月22日に開催されます。技術の基礎から最新の市場動向まで幅広く解説します。

リソグラフィ技術の現在と未来を探るオンラインセミナーのご案内

リソグラフィ／EUVレジストに関するオンラインセミナーが5月22日に開催されます。技術の基礎から最新の市場動向まで幅広く解説します。

news.3rd-in.co.jp

March 31, 2025 at 7:47 AM

気になるITニュース

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imec、従来型レジストで高NA EUVによるA14/A10ロジックパターン形成に成功
#ITニュース

ITちゃんねる

imec、従来型レジストで高NA EUVによるA14/A10ロジックパターン形成に成功 #ITニュース

it.f-frontier.com

September 15, 2026 at 1:41 AM

500drachmas

@500drachmas.bsky.social

ファウンドリでは成熟ノード（例：28nm以上）に関しては中国での生産が進みやすい反面、7nm前後やそれ以下の最先端プロセスは装置と材料の制約で難易度が高い状況が続く。EUV露光装置本体、EUV対応レジスト、超高精度光学系や極低欠陥の次世代材料といった最先端分野は、10年以上、あるいは長期的に見て事実上の追随困難という評価が妥当

August 17, 2026 at 8:46 PM

PR TIMES｜プレスリリース・ニュースリリースNo.1配信サービス [Unofficial]

@prtimes.jp.web.brid.gy

9月14日(月)AndTech「EUVレジスト・メタルレジストの高性能化に向けた材料設計・反応機構・評価技術の最新動向」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

[AndTech] [画像1: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/80053/1747/80053-1747-7eaa6ed6bfbfbeb28b2892ff064517e6-1920x1005.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bound...

prtimes.jp

July 29, 2026 at 4:49 PM

サードニュース@相互フォロー100%

@new3rd.bsky.social

次世代半導体微細加工を支えるEUVレジスト最新動向セミナー開催#半導体 #神奈川県 #川崎市 #AndTech #EUVレジスト

次世代半導体技術に不可欠なEUVレジストの最新動向を学べるオンラインセミナーが2026年9月14日に開催されます。

次世代半導体微細加工を支えるEUVレジスト最新動向セミナー開催

次世代半導体技術に不可欠なEUVレジストの最新動向を学べるオンラインセミナーが2026年9月14日に開催されます。

news.3rd-in.co.jp

July 29, 2026 at 4:48 AM

yoshikunijujo.bsky.social

@yoshikunijujo.bsky.social

www.fujifilm.com/jp/ja/news/l...

ナノインプリント・リソグラフィ用のレジストもできたみたい。
動いてる。

ナノインプリント・リソグラフィはたとえ最先端で使えなかったとしても、初期費用の安さとか、使用電力の少なさでかなり革命的な技術だと思う。

5nmとか7nmあたりを置き換えられるんじゃないかな。

ただ、すでにEUVで出来上がってしまった世界にどうやってねじ込んでいくかという話はある。

あと、歩留まりの問題は解決したのかな？

半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料ナノインプリントレジスト新発売 | 富士フイルム [日本]

www.fujifilm.com

May 2, 2024 at 1:44 AM

halu

@halustock.bsky.social

大有機は独立系化学メーカーで特殊アクリル酸エステルを強みとし、多品種少量生産を特徴としている。化成品や電子材料、機能化学品で高い実績を持つ。液晶や有機EL向け材料のほか、半導体レジスト用原料で商機を捉え、生成AI市場の拡大を背景とした半導体需要復活の恩恵を享受する。特に最先端分野のEUV（極端紫外線）レジスト用原料が急増傾向をたどっており、成長期待が強い。24年11月期は営業利益段階で前期比3％増の37億円予想と小幅な回復にとどまる見通しながら、25年11月期以降は再び利益成長のスピードが加速しそうだ。

March 10, 2024 at 2:41 AM

Bloomberg JP (bot)

@bloomberg-jp.bsky.social

富士フイルムHD、EUVレジスト開発新棟が稼働開始

富士フイルムホールディングスは25日、半導体材料を生産する静岡工場（静岡県吉田町）の敷地内に建設した開発・評価用の新棟を今月から稼働したと発表した。半導体材料事業を同社の成長ドライバーの一つに据え、投資ペースを加速させる。

www.bloomberg.co.jp

November 25, 2025 at 10:03 AM

techandchips

@techandchips.bsky.social

TSMC熊本第2工場の3nm化で、地味に大きく変わるのが装置・材料の中身です。

成熟プロセスのArF露光から、3nmはEUVが本格稼働へ。EUV対応レジスト・マスク・ペリクルは日本勢が世界シェアの中核——台湾や韓国に輸出していた先端材料が、九州で地産地消される構造が生まれます。

techandchips.com/ja/blog/tsmc...

#半導体 #TSMC

TSMC熊本第2工場、3nm導入が確定——「成熟プロセスの拠点」だった熊本が最先端の前線に変わる

「TSMC熊本第2工場、3nmプロセスを導入」——この一行を、第1工場の延長線上にある増設ニュースとして読むと、本質を見落とす。第1工場が担うのは28/22nm・16/12nmという成熟プロセスだった。第2工場に3nmが入るということは、熊本が「枯れた技術で安定供給する後方拠点」から「TSMCの最先端ノードを動かす前線...

techandchips.com

May 20, 2026 at 9:22 AM

PRTimes(非公式bot)

@prtimesunoficcial.bsky.social

2025年01月24日(金)　AndTech　WEBオンライン「EUVリソグラフィ、EUVレジストおよび最先端リソグラフィ技術の... - AndTech https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000977.000080053.html

November 22, 2024 at 7:38 AM

PRTimes(非公式bot)

@prtimesunoficcial.bsky.social

8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA... - AndTech https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000803.000080053.html

July 17, 2024 at 3:23 AM

ニュース要約Botくん

@kazuu-bot.bsky.social

【要約】富士フイルムHD、EUVレジスト開発新棟が稼働開始

富士フイルムは半導体材料事業を成長の柱と位置付け、AI半導体需要増に対応するため、静岡工場に開発・評価用の新棟を稼働させました。新棟では、極端紫外線（EUV）レジストなどの先端材料の開発・品質評価を担い、生産能力増強と多様な顧客ニーズに応えます。同社は2030年度までに先端レジストでシェア2割を目指し、25-26年度に1000億円超を投資し事業拡大を図る計画です。

富士フイルムHD、EUVレジスト開発新棟が稼働開始

富士フイルムは半導体材料事業を成長の柱と位置付け、AI半導体需要増に対応するため、静岡工場に開発・評価用の新棟を稼働させました。新棟では、極端紫外線（EUV）レジストなどの先端材料の開発・品質評価を担い、生産能力増強と多様な顧客ニーズに応えます。同社は2030年度までに先端レジストでシェア2割を目指し、25-26年度に1000億円超を投資し事業拡大を図る計画です。

www.bloomberg.co.jp

November 25, 2025 at 6:30 PM