中国がASMLの元エンジニアと協力してEUVリソグラフィー装置のリバースエンジニアリングに成功したとの報道、試作機が既に完成しており高性能半導体の自国生産間近か
https://gigazine.net/news/20251218-china-built-euv-asml/
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中国がASMLの元エンジニアと協力してEUVリソグラフィー装置のリバースエンジニアリングに成功したとの報道、試作機が既に完成しており高性能半導体の自国生産間近か
昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられています。このため中国では高性能半導体の開発が滞っているのですが、新たに、中国が独自のEUVリソグラフィー装置を生み出したと伝えられました。
gigazine.net
December 18, 2025 at 11:01 AM
中国がASMLの元エンジニアと協力してEUVリソグラフィー装置のリバースエンジニアリングに成功したとの報道、試作機が既に完成しており高性能半導体の自国生産間近か
https://gigazine.net/news/20251218-china-built-euv-asml/
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Intelが14Aプロセスノードの実現に向けて業界初の商用「高NA EUVリソグラフィ」の組み立てを完了
https://gigazine.net/news/20240419-intel-asml-high-na-euv-assembly/
https://gigazine.net/news/20240419-intel-asml-high-na-euv-assembly/
Intelが14Aプロセスノードの実現に向けて業界初の商用「高NA EUVリソグラフィ」の組み立てを完了
Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当する「14A」プロセスノードの半導体製造に向けた重要な一歩と位置づけられています。
gigazine.net
April 19, 2024 at 7:01 AM
Intelが14Aプロセスノードの実現に向けて業界初の商用「高NA EUVリソグラフィ」の組み立てを完了
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小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
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小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造するのに欠かせないテクノロジーのひとつが「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」で、その仕組みをBranch Educationが解説しています。
gigazine.net
October 27, 2025 at 10:01 PM
小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
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ASMLとTSMCは中国の台湾侵攻に備えて半導体製造装置に「リモートで無効化する機能」を搭載しているとの指摘
https://gigazine.net/news/20240522-asml-tsmc-chip-machine-remote-kill-switch/
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ASMLとTSMCは中国の台湾侵攻に備えて半導体製造装置に「リモートで無効化する機能」を搭載しているとの指摘
高性能な半導体を製造するのに必要な「EUV(極端紫外線)リソグラフィ」という装置を世界で唯一製造するオランダのメーカー・ASMLと、台湾に拠点を置く世界最大の半導体ファウンドリ・TSMCが、中国の台湾侵攻に備えてEUVリソグラフィー装置を遠隔で無効化する仕組みを導入していると報じられました。
gigazine.net
May 22, 2024 at 1:29 AM
ASMLとTSMCは中国の台湾侵攻に備えて半導体製造装置に「リモートで無効化する機能」を搭載しているとの指摘
https://gigazine.net/news/20240522-asml-tsmc-chip-machine-remote-kill-switch/
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Fresh out of the press. #risographprint #ninjamachiya #26
Printed in Black, Burgundy, Sunflower, Aqua and Green
on 240grs extrarough #paper
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March 10, 2025 at 5:52 PM
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GIGAZINE：小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？： https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造するのに欠かせないテクノロジーのひとつが「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」で、その仕組みをBranch Educationが解説しています。
gigazine.net
October 27, 2025 at 11:45 PM
GIGAZINE：小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？： https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
中国側は中国製造2025の総決算として、EUV露光装置とそれによって実現する先端CPU/GPUの完全内製化を目指していて、それは早ければ数年で実現するだろうとも言われている。
その時期を遅らせるために、中国に西側の先端技術を供給し続けるべきだ、というのはNVIDIAのジェンスンもASMLのピーター・ウェニンクも言ってたこと。つまり、本件で困っているのは中国側ではない。
jp.reuters.com/markets/japa...
その時期を遅らせるために、中国に西側の先端技術を供給し続けるべきだ、というのはNVIDIAのジェンスンもASMLのピーター・ウェニンクも言ってたこと。つまり、本件で困っているのは中国側ではない。
jp.reuters.com/markets/japa...
中国半導体トップ、「中国版ＡＳＭＬ」創設へ政策支援訴え
中国の主要半導体企業の幹部らは、２０２６─３０年に実用的な露光装置（リソグラフィー装置）を開発するため、国家主導の協調的な取り組みが必要だと訴えた。技術面での自立を強めようとする中国の方針を改めて強調した形だ。
jp.reuters.com
May 15, 2026 at 1:11 AM
中国側は中国製造2025の総決算として、EUV露光装置とそれによって実現する先端CPU/GPUの完全内製化を目指していて、それは早ければ数年で実現するだろうとも言われている。
その時期を遅らせるために、中国に西側の先端技術を供給し続けるべきだ、というのはNVIDIAのジェンスンもASMLのピーター・ウェニンクも言ってたこと。つまり、本件で困っているのは中国側ではない。
jp.reuters.com/markets/japa...
その時期を遅らせるために、中国に西側の先端技術を供給し続けるべきだ、というのはNVIDIAのジェンスンもASMLのピーター・ウェニンクも言ってたこと。つまり、本件で困っているのは中国側ではない。
jp.reuters.com/markets/japa...
#ninjamachiya #25
#risographprint
42 x 29.7 cm
2024
Printed in Aqua, Red, Red and Yellow on 240grs. #paper
#risography #risograph #risoprint #hongkong #artinberlin #リソグラフィー #香港
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Printed in Aqua, Red, Red and Yellow on 240grs. #paper
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February 28, 2025 at 6:14 PM
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42 x 29.7 cm
2024
Printed in Aqua, Red, Red and Yellow on 240grs. #paper
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42 x 29.7 cm
2024
Printed in Aqua, Red, Red and Yellow on 240grs. #paper
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成功するかどうかわからない段階で初めて挑戦することと、成功事例がある状態での模倣は難易度に雲泥の差がある。
例えるなら初めてEUVリソグラフィを実用化させたASMLと、古い露光装置を手に入れてリバースエンジニアリングと公開論文から試作機を製造したHuaweiの違い。困難でもゴールが分かってればやりようはある。
しかも今回の試掘、かなりの部分が国産独自技術ではなく既存の海外製品を利用して行われている。
つまり、中国はコア技術を公開情報から模倣しつつ、周辺コンポーネントは同様に購入することもできる。日本がEEZで成功したなら、それを公認された公海海底の鉱区でやればいい。
例えるなら初めてEUVリソグラフィを実用化させたASMLと、古い露光装置を手に入れてリバースエンジニアリングと公開論文から試作機を製造したHuaweiの違い。困難でもゴールが分かってればやりようはある。
しかも今回の試掘、かなりの部分が国産独自技術ではなく既存の海外製品を利用して行われている。
つまり、中国はコア技術を公開情報から模倣しつつ、周辺コンポーネントは同様に購入することもできる。日本がEEZで成功したなら、それを公認された公海海底の鉱区でやればいい。
February 6, 2026 at 3:31 PM
成功するかどうかわからない段階で初めて挑戦することと、成功事例がある状態での模倣は難易度に雲泥の差がある。
例えるなら初めてEUVリソグラフィを実用化させたASMLと、古い露光装置を手に入れてリバースエンジニアリングと公開論文から試作機を製造したHuaweiの違い。困難でもゴールが分かってればやりようはある。
しかも今回の試掘、かなりの部分が国産独自技術ではなく既存の海外製品を利用して行われている。
つまり、中国はコア技術を公開情報から模倣しつつ、周辺コンポーネントは同様に購入することもできる。日本がEEZで成功したなら、それを公認された公海海底の鉱区でやればいい。
例えるなら初めてEUVリソグラフィを実用化させたASMLと、古い露光装置を手に入れてリバースエンジニアリングと公開論文から試作機を製造したHuaweiの違い。困難でもゴールが分かってればやりようはある。
しかも今回の試掘、かなりの部分が国産独自技術ではなく既存の海外製品を利用して行われている。
つまり、中国はコア技術を公開情報から模倣しつつ、周辺コンポーネントは同様に購入することもできる。日本がEEZで成功したなら、それを公認された公海海底の鉱区でやればいい。
www.youtube.com/watch?v=MiUH...
ASMLのEUVリソグラフィ装置の仕組みを解説しています。
ASMLのEUVリソグラフィ装置の仕組みを解説しています。
The Ridiculous Engineering Of The World's Most Important Machine
YouTube video by Veritasium
www.youtube.com
January 2, 2026 at 7:12 AM
www.youtube.com/watch?v=MiUH...
ASMLのEUVリソグラフィ装置の仕組みを解説しています。
ASMLのEUVリソグラフィ装置の仕組みを解説しています。
「限界といわれながら半導体集積回路の高集積化の勢いが止まらない。この高集積化を牽引するリソグラフィ技術に関し、その基本から応用まで詳述する。光リソグラフィ技術の解像限界を突破するマルチパターニング技術から、最先端微細加工を実現するEUVリソグラフィ技術の最新状況を紹介する。さらにマスク作製を一変させたマルチビーム型電子線描画装置の最新状況や、超微細な構造を実現するナノインプリント技術の最新状況まで述べている。」
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 | 技術評論社
https://gihyo.jp/book/2026/978-4-297-15462-2
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 | 技術評論社
https://gihyo.jp/book/2026/978-4-297-15462-2
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 | 技術評論社
限界といわれながら半導体集積回路の高集積化の勢いが止まらない。この高集積化を牽引するリソグラフィ技術に関し、その基本から応用まで詳述する。光リソグラフィ技術の解像限界を突破するマルチパターニング技術から、最先端微細加工を実現するEUVリソグラフィ技術の最新状況を紹介する。さらにマスク作製を一変させたマルチビーム型電子線描画装置の最新状況や、超微細な構造を実現するナノインプリント技術の最新状況まで述べている。
gihyo.jp
May 11, 2026 at 1:26 PM
「限界といわれながら半導体集積回路の高集積化の勢いが止まらない。この高集積化を牽引するリソグラフィ技術に関し、その基本から応用まで詳述する。光リソグラフィ技術の解像限界を突破するマルチパターニング技術から、最先端微細加工を実現するEUVリソグラフィ技術の最新状況を紹介する。さらにマスク作製を一変させたマルチビーム型電子線描画装置の最新状況や、超微細な構造を実現するナノインプリント技術の最新状況まで述べている。」
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 | 技術評論社
https://gihyo.jp/book/2026/978-4-297-15462-2
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 | 技術評論社
https://gihyo.jp/book/2026/978-4-297-15462-2
気づいてなかったけど、8月中旬に中国初の国産商業電子ビームリソグラフィー装置「羲之（Xizhi）」が0.6ナノメートル（nm）の精度を出してきたというニュースが出てたらしい。
マスク露光装置ではないので生産効率は前述のASMLのEUVには到底敵うものではなく、あくまでR&Dや小規模生産用途向けになるけど、これも少し前なら考えられなかった成果。
中国産業界には「制裁されたら自分で作り始める」「成功するまでやり続ける」という胆力がある。EUVにしても、ASMLにキャッチアップできない理由はどんどん減ってきている。
xenospectrum.com/china-xizhi-...
マスク露光装置ではないので生産効率は前述のASMLのEUVには到底敵うものではなく、あくまでR&Dや小規模生産用途向けになるけど、これも少し前なら考えられなかった成果。
中国産業界には「制裁されたら自分で作り始める」「成功するまでやり続ける」という胆力がある。EUVにしても、ASMLにキャッチアップできない理由はどんどん減ってきている。
xenospectrum.com/china-xizhi-...
中国が国産初の電子ビームリソグラフィー装置開発に成功：精度はASML級、しかし量産できぬ“諸刃の剣”か | XenoSpectrum
米国の厳しい輸出規制の網が絞られる中、中国の半導体自給への渇望が生み出した一つの答えが、静かにそのベールを脱いだ。2025年8月13日、浙江省杭州市余杭区で、中国初となる国産商業電子ビームリソグラフィー装置「羲之（Xiz ... <a title="中国が国産初の電子ビームリソグラフィー装置開発に成功：精度はASML級、しかし量産できぬ“諸刃の剣”か" class="read-more" href...
xenospectrum.com
August 26, 2025 at 2:53 AM
気づいてなかったけど、8月中旬に中国初の国産商業電子ビームリソグラフィー装置「羲之（Xizhi）」が0.6ナノメートル（nm）の精度を出してきたというニュースが出てたらしい。
マスク露光装置ではないので生産効率は前述のASMLのEUVには到底敵うものではなく、あくまでR&Dや小規模生産用途向けになるけど、これも少し前なら考えられなかった成果。
中国産業界には「制裁されたら自分で作り始める」「成功するまでやり続ける」という胆力がある。EUVにしても、ASMLにキャッチアップできない理由はどんどん減ってきている。
xenospectrum.com/china-xizhi-...
マスク露光装置ではないので生産効率は前述のASMLのEUVには到底敵うものではなく、あくまでR&Dや小規模生産用途向けになるけど、これも少し前なら考えられなかった成果。
中国産業界には「制裁されたら自分で作り始める」「成功するまでやり続ける」という胆力がある。EUVにしても、ASMLにキャッチアップできない理由はどんどん減ってきている。
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ナノインプリント・リソグラフィに関する書籍が発刊、半導体微細加工技術の未来を探る#半導体#神奈川県#川崎市#AndTech#技術書籍
AndTechが新たに発刊した書籍『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望』が、注目の技術を深く掘り下げています。半導体業界の未来を探る重要な一冊です。
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ナノインプリント・リソグラフィに関する書籍が発刊、半導体微細加工技術の未来を探る
AndTechが新たに発刊した書籍『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望』が、注目の技術を深く掘り下げています。半導体業界の未来を探る重要な一冊です。
news.3rd-in.co.jp
April 1, 2025 at 5:06 AM
昨年から持ち越しの休暇の消化のため、今週と来週で二週間の休暇を取ります。そうは言っても旅行などの計画は特になく、することと言えば自宅で静養するかまたは近場で普段行けない所を訪問する程度です。例えばわんこと一緒に入れないハイデルベルクの古書店を巡るとか。良い感じのリソグラフィ作品が見つかれば、自宅に飾りたいと考えています。
いつものように年末年始から休みなく仕事だったため、また昨今の異常な暑さもあって身体がかなり疲れています。休暇＝旅行ではなく、自宅で静かに過ごすのも良いですね。読書したり散歩したり。ぼんやりするのも気分転換。
いつものように年末年始から休みなく仕事だったため、また昨今の異常な暑さもあって身体がかなり疲れています。休暇＝旅行ではなく、自宅で静かに過ごすのも良いですね。読書したり散歩したり。ぼんやりするのも気分転換。
July 12, 2026 at 2:46 PM
昨年から持ち越しの休暇の消化のため、今週と来週で二週間の休暇を取ります。そうは言っても旅行などの計画は特になく、することと言えば自宅で静養するかまたは近場で普段行けない所を訪問する程度です。例えばわんこと一緒に入れないハイデルベルクの古書店を巡るとか。良い感じのリソグラフィ作品が見つかれば、自宅に飾りたいと考えています。
いつものように年末年始から休みなく仕事だったため、また昨今の異常な暑さもあって身体がかなり疲れています。休暇＝旅行ではなく、自宅で静かに過ごすのも良いですね。読書したり散歩したり。ぼんやりするのも気分転換。
いつものように年末年始から休みなく仕事だったため、また昨今の異常な暑さもあって身体がかなり疲れています。休暇＝旅行ではなく、自宅で静かに過ごすのも良いですね。読書したり散歩したり。ぼんやりするのも気分転換。
オランダ企業ASMLの極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置は世界最先端の半導体製造の基盤であり、AI産業全体において数少ない「チョークポイント（供給の要衝）」の一つ。EUがASMLの輸出を規制すれば米中を含む全世界のAI軍拡競争を止められないまでもスローダウンさせることができる？という記事
September 1, 2026 at 6:28 AM
オランダ企業ASMLの極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置は世界最先端の半導体製造の基盤であり、AI産業全体において数少ない「チョークポイント（供給の要衝）」の一つ。EUがASMLの輸出を規制すれば米中を含む全世界のAI軍拡競争を止められないまでもスローダウンさせることができる？という記事
原画展にも行ってきた！ 👏
リソグラフィは関心高い印刷技法なので制作過程のビデオも楽しく見ました。 レンチキュラーも繊細に扱われているのが見えて驚いた🧐
リソグラフィは関心高い印刷技法なので制作過程のビデオも楽しく見ました。 レンチキュラーも繊細に扱われているのが見えて驚いた🧐
June 24, 2026 at 10:08 AM
原画展にも行ってきた！ 👏
リソグラフィは関心高い印刷技法なので制作過程のビデオも楽しく見ました。 レンチキュラーも繊細に扱われているのが見えて驚いた🧐
リソグラフィは関心高い印刷技法なので制作過程のビデオも楽しく見ました。 レンチキュラーも繊細に扱われているのが見えて驚いた🧐
一般の人からPC買いたいんだけどと相談を受けたときにどのレベルの回答が必要なのか分からないので、とりあえず現代のISAの持つ課題とリソグラフィーのトレンドから始めたけど大丈夫だっただろうか
April 15, 2026 at 1:49 AM
一般の人からPC買いたいんだけどと相談を受けたときにどのレベルの回答が必要なのか分からないので、とりあえず現代のISAの持つ課題とリソグラフィーのトレンドから始めたけど大丈夫だっただろうか
小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造するのに欠かせないテクノロジーのひとつが「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」で、その仕組みをBranch Educationが解説しています。
gigazine.net
October 28, 2025 at 3:21 AM
小さなCPUに数百億個の極小トランジスタを詰め込む製造装置「EUVリソグラフィ」は一体どんな仕組みなのか？
https://gigazine.net/news/20251028-how-transistors-made-microchip-euv-photolithography/
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Z2 - ガレージ工場でリソグラフィ製造されたIC
Z2 – Lithographically fabricated IC in a garage fab
🔺 343
💬 15
🔗 HN Post | Article
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Second IC :) – Sam Zeloof
sam.zeloof.xyz
December 8, 2025 at 5:43 AM
